ASML поставила Intel первую партию литографических машин для американского завода

Новейшие литографические машины ASML, работающие в экстремальном ультрафиолете по технологии «high-numerical aperture extreme ultraviolet», были доставлены на фабрику D1X компании Intel в штате Орегон.

С новым оборудованием Intel, которая столкнулась с огромными проблемами с самостоятельным преодолением технологической планки в 10 нм, снова возвращается в число тех производителей полупроводниковой продукции, кому доступны единицы нанометров. ASML тоже выгодно, она получает нового крупного заказчика, что особенно важно для датской компании, которая лишилась китайских заказчиков, попавших под санкции.

Завод D1X, как ожидается, начнет работу в 2025 году.

Новейшая установка ASML по производству полупроводниковой продукции с использованием технологии «high NA EUV» получила название Twinscan EXE:5200, ее цена составляет около 250 млн евро. Еще более продвинутая литографическая машина на базе технологии «high-NA EUV» с более высокой производительностью, EXE:5200B, стоит порядка 350 млн евро.